エネルギービームによる加工方法および加工装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：渡邉勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-082077
公開番号（公開出願番号）：特開平8-318386
出願日： 1996年03月11日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【課題】パターン作製の自由度が高く、簡単な構成で任意のパターンの曲面や斜面を自由にかつ精度良く加工することができる方法と装置を提供し、さらに、これにより作製された性能の優れた素子を提供する。【解決手段】エネルギービーム源1より放射されたエネルギービームを所定のパターンを持つ遮蔽物4・・・を介して被加工物2に照射し、被加工物2を加工するエネルギービームによる加工方法であって、エネルギービーム源1、遮蔽物4・・・及び被加工物2の少なくとも1つを他者に対して相対移動させながらエネルギービームを照射して、被加工物表面の被加工部のビーム照射時間を制御することにより表面に凹凸を形成する。

請求項（抜粋）：

エネルギービーム源より放射されたエネルギービームを所定のパターンを持つ遮蔽物を介して被加工物に照射し、該被加工物を加工するエネルギービームによる加工方法であって、エネルギービーム源、遮蔽物及び被加工物の少なくとも1つを他者に対して相対移動させながらエネルギービームを照射して、被加工物表面の被加工部のビーム照射時間を制御することにより該表面に凹凸を形成することを特徴とするエネルギービームによる加工方法。

IPC (6件)：

B23K 26/06 , B23K 15/00 502 , B23K 15/00 508 , B23K 17/00 , G21K 5/04 , H05H 3/02

FI (6件)：

B23K 26/06 J , B23K 15/00 502 , B23K 15/00 508 , B23K 17/00 , G21K 5/04 Z , H05H 3/02

引用特許：

審査官引用 (5件)

微細加工法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-054022 出願人：株式会社ニコン
特開平3-123900
特開昭62-201444

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