特許
J-GLOBAL ID:200903076897019380

電解加工装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 勇 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-380641
公開番号(公開出願番号):特開2003-175422
出願日: 2001年12月13日
公開日(公表日): 2003年06月24日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】加工レート変化をもたらすことなく、均一な加工が行なえるようにした電解装置及び方法【解決手段】 被加工物Wに近接自在な加工電極50と、被加工物Wに給電する給電電極52と、被加工物Wと加工電極50との間または被加工物Wと給電電極52との間の少なくとも一方に配置したイオン交換体56と、イオン交換体56が存在する被加工物Wと加工電極50または給電電極52の少なくとも一方との間に流体を供給する流体供給部72,48aと、加工電極50と給電電極52との間に、電圧または電流の少なくとも一方を任意に制御して供給する電源80を有する。
請求項(抜粋):
被加工物に近接自在な加工電極と、被加工物に給電する給電電極と、被加工物と前記加工電極との間または被加工物と前記給電電極との間の少なくとも一方に配置したイオン交換体と、前記イオン交換体が存在する被加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に流体を供給する流体供給部と、前記加工電極と前記給電電極との間に、電圧または電流の少なくとも一方を任意に制御して供給する電源を有することを特徴とする電解加工装置。
IPC (6件):
B23H 3/00 ,  B23H 3/02 ,  B23H 3/10 ,  B23H 7/36 ,  C25F 3/00 ,  C25F 7/00
FI (8件):
B23H 3/00 ,  B23H 3/02 Z ,  B23H 3/10 A ,  B23H 7/36 C ,  C25F 3/00 C ,  C25F 7/00 L ,  C25F 7/00 U ,  C25F 7/00 V
Fターム (10件):
3C059AA02 ,  3C059AB01 ,  3C059CB12 ,  3C059CC02 ,  3C059CC08 ,  3C059CG03 ,  3C059CG04 ,  3C059EA02 ,  3C059EB08 ,  3C059EC02
引用特許:
審査官引用 (3件)

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