特許

J-GLOBAL ID：200903076905038348

ライン光スポットで二次元イメージングを行う検査システム

発明者： ラインフロン, シルヴィウ ,  アルモギー, ギラド
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-616407
公開番号（公開出願番号）：特表2002-544477
出願日： 2000年05月11日
公開日（公表日）： 2002年12月24日
要約：

【要約】ウェーハ検査システム、特に、半導体ウェーハ及びレチクルの検査システムが記述される。ウェーハは、細長い「リニア」または「ラインスポット」に照射される。「ラインスポット」は、基本的にウェーハ表面上の細長い照射であり、整列するいくつかの画素をカバーしてラインを形成する。リニアスポットは、1つの方向に固定して保持されるが、ウェーハはその下で他の方向に走査される。このように、二次元領域がカバーされ、イメージングすることができる。イメージングは、センサアレイ例えばラインCCDを使用して好適に実行される。好適な実施形態において、2つのリニアスポットが2つのラインCCDと共に使用される。パターン化されたウェーハを検査する場合、リニアスポットはウェーハの縦及び横軸に対して45 ゚の角度を補足して突出する。

請求項（抜粋）：

上に形成される、垂直方向を有する基板上の二次元領域の照明のための方法であって、 基板上のラインスポットを照らすステップと、 単一の方向に基板を走査するステップと、 前記垂直方向に所定の角度で散乱する光を集めるステップと、を含む方法。

IPC (5件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (5件)：

G01N 21/956 A ,  G01B 11/30 Z ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 V

Fターム (49件)：

2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065BB03 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065DD04 ,  2F065DD06 ,  2F065FF42 ,  2F065FF48 ,  2F065HH05 ,  2F065HH13 ,  2F065HH16 ,  2F065HH17 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL08 ,  2F065LL09 ,  2F065LL28 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ01 ,  2F065QQ11 ,  2F065QQ23 ,  2F065UU07 ,  2G051AA51 ,  2G051BA01 ,  2G051BB01 ,  2G051BB05 ,  2G051BB09 ,  2G051BB20 ,  2G051CA03 ,  2G051CA06 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2H095BD02 ,  2H095BD11 ,  2H095BD13 ,  2H095BD17 ,  2H095BD20 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106DB04 ,  4M106DB11 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ04

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭56-115945
  
• 異物検出装置および異物観察分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-018786   出願人：株式会社アドバンテスト
• 採血装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-158899   出願人：テルモ株式会社
• 特開平4-006448