フォトマスクの洗浄装置及びフォトマスクの洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-222344
公開番号（公開出願番号）：特開平10-062965
出願日： 1996年08月23日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】使用する薬品の危険性が高く、しかも強固に付着した異物の除去が容易でない。【解決手段】フォトマスクを、オゾン洗浄部11とアイススクライブ洗浄部12と超音波洗浄部13と温水引き上げ乾燥部14を有する洗浄装置により洗浄する。

請求項（抜粋）：

オゾン水洗浄部とアイススクライブ洗浄部と超音波洗浄部と温水引き上げ乾燥部とを有することを特徴とするフォトマスクの洗浄装置。

IPC (5件)：

G03F 1/08 , B08B 3/08 , B08B 3/12 , B08B 7/04 , H01L 21/304 341

FI (5件)：

G03F 1/08 X , B08B 3/08 Z , B08B 3/12 Z , B08B 7/04 , H01L 21/304 341 M

引用特許：

審査官引用 (6件)

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