特許
J-GLOBAL ID:200903076973448783
質量分析装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
小川 勝男
, 田中 恭助
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-152835
公開番号(公開出願番号):特開2005-339812
出願日: 2004年05月24日
公開日(公表日): 2005年12月08日
要約:
【課題】 高い効率で正イオン及び負イオンを生成できるイオン源部を有する質量分析装置を提供する。 【解決手段】 試料ガスのイオンを生成するイオン源部、生成されたイオンの質量分離を行なう質量分析部412、2次元高周波発生用多重極電極、磁場発生手段、試料ガス導入系409、反応ガス導入系410、電子源403を具備する。2次元高周波発生用多重極電極は2次元高周波多重極電場を発生させる。磁場発生手段は、2次元高周波多重極電場が略ゼロとなる中心軸に略平行に重畳させる静磁場を発生させる。試料ガス導入系は試料ガスをイオン源部の内部に導入させ、反応ガス導入系は正イオン又は負イオンの生成させるための反応ガス(1次ガス)をイオン源の内部に導入させる。電子源403は正イオン又は負イオンの生成反応のための電子404を発生させる。2次元高周波発生用多重極電極、磁場発生手段、及び、電子源403は、イオン源の内部に配置される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
試料ガスのイオンを生成するイオン源部と、前記イオンの質量分離を行なう質量分析部と、2次元高周波多重極電場を発生させる2次元高周波発生用多重極電極と、前記2次元高周波多重極電場が略ゼロとなる中心軸に略平行に重畳させる静磁場を発生させる磁場発生手段と、前記試料ガスを前記イオン源部の内部に導入させる試料ガス導入系と、前記イオンの生成反応に用いる反応ガスを前記イオン源の内部に導入させる反応ガス導入系と、前記イオンの生成反応に用いる電子を発生させる電子源とを有し、前記2次元高周波発生用多重極電極、前記磁場発生手段、及び、前記電子源が、前記イオン源の内部に配置されることを特徴とする質量分析装置。
IPC (4件):
H01J49/10
, G01N27/62
, H01J49/06
, H01J49/26
FI (4件):
H01J49/10
, G01N27/62 G
, H01J49/06
, H01J49/26
Fターム (6件):
5C038FF13
, 5C038GG01
, 5C038GG13
, 5C038GH11
, 5C038GH15
, 5C038HH02
引用特許:
前のページに戻る