プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-079726
公開番号（公開出願番号）：特開平8-115901
出願日： 1994年03月25日
公開日（公表日）： 1996年05月07日
要約：

【要約】【目的】処理容器に設けられた誘導手段に高周波を印加することにより生成されるプラズマにより、被処理体を処理するプラズマ処理方法において、プラズマの立ち上げを安定させる方法を提供する。【構成】処理容器内に設けられたシャワーヘッドにより不活性ガスを供給し、誘導手段に高周波を印加してプラズマ化させることにより、続いて行う処理ガスのプラズマ立ち上げを安定させる。

請求項（抜粋）：

気密な処理容器内に設けられた被処理体を、誘導手段によりプラズマを生起させ処理するプラズマ生成方法において、不活性ガスを前記処理容器内に導入して前記誘導手段によりプラズマを生起する第一の工程と、前記被処理体を処理する処理ガスを前記処理容器内に導入して前記誘導手段によりプラズマを生起して前記被処理体を処理する第二の工程と、を具備したことを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 , C23F 4/00 , H01L 21/31 , H01L 21/68 , H05H 1/46

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平1-125933
特開昭62-007130
高周波誘導熱プラズマトーチ
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-040687 出願人：電気興業株式会社

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