特許
J-GLOBAL ID：200903077058009243

プラズマ処理装置

発明者：
石井 信雄

石井 信雄 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 亀谷 美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-284208
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122545
出願日： 1993年10月20日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 処理室内のプラズマ流を側壁に逸らさずに被処理体に照射させることが可能なプラズマ処理装置を提供する。【構成】 本発明によれば、高周波アンテナ(9)と絶縁材(5)との間に静電遮蔽手段(8)が介在されるので、高周波アンテナの静電作用が軽減され、処理容器2内に生じたプラズマ流が側壁に逸れることなく、被処理体の処理面に照射される。または本発明構成によれば、プラズマの着火も促進される。
請求項（抜粋）：
処理室の外部に絶縁体を介して配置された高周波アンテナに高周波電力を印加することによりその処理室内に誘導プラズマを励起して、その処理室内に配置された被処理体に所定の処理を施すプラズマ処理装置であって、前記高周波アンテナと前記絶縁体との間に静電遮蔽手段を介在させることを特徴とする、プラズマ処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/3065 ,  C23C 14/40 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205
引用特許：
出願人引用 (13件)
  • 特表平5-502971
  • 特開平3-079025
  • ICPプラズマ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-020064   出願人：堀池靖浩, 株式会社神戸製鋼所
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審査官引用 (13件)
  • 特表平5-502971
  • 特表平5-502971
  • 特表平5-502971
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