特許
J-GLOBAL ID:200903077117703159

薄膜製造方法および薄膜製造設備

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 深見 久郎 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-012949
公開番号(公開出願番号):特開2002-212705
出願日: 2001年01月22日
公開日(公表日): 2002年07月31日
要約:
【要約】【課題】 高品質のリチウム金属薄膜および無機固体電解質薄膜を製造することのできる方法を提供する。【解決手段】 リチウム金属薄膜または無機固体電解質薄膜積を製造する方法が提供され、該方法は、薄膜製造工程においてアルカリ金属または無機固体電解質もしくはその原料と接触する雰囲気の露点を-40°Cとすることを特徴とする。露点が-40°C以下の環境において、薄膜作製のための原料や基材あるいは製造した薄膜を取り扱えば、リチウム金属や硫化物系の無機固体電解質の劣化を効果的に防止できる。
請求項(抜粋):
アルカリ金属を含む薄膜および/または無機固体電解質を含む薄膜を製造する方法であって、薄膜製造工程において前記アルカリ金属または前記無機固体電解質もしくはその原料と接触する雰囲気の露点を-40°Cとすることを特徴とする、薄膜製造方法。
IPC (4件):
C23C 14/14 ,  H01M 4/02 ,  H01M 4/38 ,  H01M 4/40
FI (4件):
C23C 14/14 D ,  H01M 4/02 D ,  H01M 4/38 Z ,  H01M 4/40
Fターム (26件):
4K029AA02 ,  4K029AA25 ,  4K029BA02 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029DA00 ,  4K029EA03 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  5H050AA19 ,  5H050BA16 ,  5H050BA18 ,  5H050CA08 ,  5H050CB12 ,  5H050DA13 ,  5H050EA01 ,  5H050EA12 ,  5H050EA15 ,  5H050FA04 ,  5H050FA18 ,  5H050GA24 ,  5H050HA01 ,  5H050HA14 ,  5H050HA15
引用特許:
審査官引用 (5件)
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引用文献:
審査官引用 (3件)
  • 岩波 理化学辞典, 19980424, 第5版,第2刷, p. 1442
  • 化学辞典, 19950510, 第1版,第2刷, p. 1502
  • 化学大辞典9, 19791110, 縮刷版,第23刷, pp. 606-607

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