特許
J-GLOBAL ID：200903077127551241
排ガス処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-243369
公開番号（公開出願番号）：特開平9-085036
出願日： 1995年09月21日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：
【要約】【課題】 排ガス処理装置において、排ガス処理室の排水口が反応生成物により閉塞することを防止し、しかも閉塞するような状態が発生する場合は、初期の段階で検知できるようにする。【解決手段】 排ガス処理室1底部を漏斗状底部14とし、漏斗状底部14の先端部15に排水管10を設置し、さらに一時蓄積槽11の排水管13系に凹状の配管部17を設け、ここにピトー静圧管流速計18を設置し、ピトー静圧管流速計18の信号出力と圧力計6の信号出力を警報器19に接続する。【効果】 排ガス処理装置の定期整備期間を長くでき、生産性が向上する。また、排ガス処理室の排水口が閉塞するような状態が発生する場合は、初期の段階で検知でき、半導体製造装置で処理中の半導体ウェーハを処理完了まで排ガス処理装置を稼働させられ、半導体ウェーハの損失を防止できる。
請求項（抜粋）：
排ガスの導入される経路に置かれた、排ガスの吸収液を霧状に放射させるノズルと、排ガスを外部に排出させるためのファンと、前記ファンの後方に配置されて吸収液と反応生成物とを反応後の排気ガスと分離させるためのフィルタとから成る排ガス処理室、前記排ガス処理室内の圧力を検知する圧力計、前記排ガス処理室の底部に集まる吸収液と反応生成物を一時蓄積する蓄積槽、とにより構成される排ガス処理装置において、前記吸収液や反応生成物が集まる前記排ガス処理室の底部を漏斗状底部にし、前記漏斗状底部の先端部に吸収液と反応生成物を排出する配管を設けたことを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (4件)：
B01D 53/34
, B01D 53/77
, C23C 14/24
, H01L 21/205
B01D 53/34 E
, C23C 14/24 M
, H01L 21/205
