特許
J-GLOBAL ID:200903077134833678

pnp形バイポーラトランジスタ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 富村 潔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-157476
公開番号(公開出願番号):特開平8-330324
出願日: 1996年05月29日
公開日(公表日): 1996年12月13日
要約:
【要約】【課題】 pnpトランジスタの特性を改良する。【解決手段】 高ドープされたp導電性エミッタ領域8、34、ベース領域7、30及びコレクタ領域並びにエミッタ領域の下に埋め込まれたn導電性領域2、22及び高ドーピングのエミッタ領域8、34から埋封領域2、22に達するp導電性のもう1つの領域10、36を有するpnp形バイポーラトランジスタを形成する。
請求項(抜粋):
高ドーピングのp導電性エミッタ領域、ベース領域並びにエミッタ領域の下に埋め込まれているn導電性領域、高ドーピングのエミッタ領域(8;34)と埋封領域(2;22)との間に配設されておりこの高ドーピングエミッタ領域と接続しているp導電形のもう1つの領域(10;36)、及び高ドーピングのコレクタ端子領域(11;31)とこの領域から埋封領域(2;22)まで達するp導電形領域(13;37)を含むコレクタ領域を有することを特徴とするpnpバイポーラトランジスタ。
IPC (4件):
H01L 21/331 ,  H01L 29/73 ,  H01L 21/8249 ,  H01L 27/06
FI (2件):
H01L 29/72 ,  H01L 27/06 321 C
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-232116   出願人:松下電子工業株式会社
  • 特開昭59-090957
  • 特開昭50-108890
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