特許
J-GLOBAL ID：200903077232065883
微粒子配列構造体及びその製造方法、光学媒体及びその製造方法、並びに下地微粒子配列構造体及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-056172
公開番号（公開出願番号）：特開2004-262151
出願日： 2003年03月03日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：
【課題】微粒子配列及びその形成速度が基体表面の凹凸の影響をほとんど受けない、微粒子配列構造体及びその製造方法、光学媒体及びその製造方法、並びに下地微粒子配列構造体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】PETフィルム等のプラスチック基板100の表面をサンドブラスト加工したものを基体1とし、基体1の上に下地微粒子層2及び第2の微粒子層3を、例えば自己組織化法、具体的には、自然沈降法や引き上げ法によって積層する。下地微粒子層2は、微粒子層3より粒径の小さい微粒子によって、基体1の表面の凹凸を覆い尽くし、且つ、上層部が規則的な配列構造になるように形成する。第2の微粒子層3を、シリカ微粒子の直径305nm、250nm及び220nmのシリカ微粒子で形成すると、それぞれ、赤色、緑色及び青色の光を選択的に反射する層を形成でき、これら3つの層を積層すれば、3原色光を反射する層を形成できる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
少なくとも上層部は規則的な配列構造からなる下地微粒子層が基体上に形成され、前記下地微粒子層の上に、規則的に配列した第2の微粒子層が積層されている、微粒子配列構造体。
IPC (3件)：
B32B5/16
, B32B7/02
, G03B21/60
B32B5/16
, B32B7/02 103
, G03B21/60 Z
2H021BA04
, 2H021BA05
, 2H021BA10
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10C
, 4F100DE01B
, 4F100DE01C
, 4F100DE04B
, 4F100DE04C
, 4F100GB41
, 4F100JN06
