特許

J-GLOBAL ID：200903077251786974

フォトマスク及びその製造方法

発明者： 石田 伸二 ,  安里 直生
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-308358
公開番号（公開出願番号）：特開平9-127677
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【課題】 フォトマスクの近接効果による転写パターンの縮退を防止するために、位相シフトマスクを構成すると、マスクパターンの設計が困難になり、かつその製造が困難なものとなる。【解決手段】 透明基板1上に遮光膜2と半透明膜3とでマスクパターンが形成される。遮光膜2は本来のマスクのパターン形状のうち、端部が半透明膜3で置き換えられた構成とされる。半透明膜3は4〜15%程度の透過率を有し、かつこれを透過する光と透過しない光との間に180度の位相差を生じさせる。これにより、半透明膜3のエッジ部での光強度を急峻なものにでき、フォトレジストに転写されるパターンの縮退を防止する。遮光膜2の一部を半透明膜に置き換えるため、設計、製造が容易なものとなる。

請求項（抜粋）：

透明基板上に所要のパターン形状の遮光膜が形成されたフォトマスクにおいて、前記遮光膜の一部が半透明膜で形成され、かつこの半透明膜は、半透明膜を透過する光としない光に180度の位相差を生じさせるように構成されたことを特徴とするフォトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-211451
  
• 特開平3-125150
  
• ハーフトーン型位相シフトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-068550   出願人：ホーヤ株式会社
• 位相シフトマスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-120623   出願人：凸版印刷株式会社