特許
J-GLOBAL ID：200903017821569082
ハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-068550
公開番号（公開出願番号）：特開平6-282063
出願日： 1993年03月26日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 ステッパーのレティクルとして用いた場合に、ステッパーのアパーチャーの光通過領域と、レティクルたる位相シフトマスクの転写領域との間に多少のずれがあっても、このずれに基づく露光の欠陥が生ずることを防止することができるハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。【構成】 透明基板2の全面に実質的に露光に寄与しない強度の露光光を透過させると同時に通過する光の位相をシフトさせる半透光膜5を形成し、透明基板2の中央部においてこの半透光膜5の一部を除去して透光部6と半透光部7とで構成するマスクパターンを形成し、半透光部7を通過した光の位相と透光部6を通過した光の位相とを異ならしめて透光部と半透光部との境界部近傍を通過した光が互いに打ち消しあうようにして境界部のコントラストを良好に保持できるようにしたハーフトーン型位相シフトマスク1において、透明基板2上の外周周辺に残された半透光膜5の上であって、マスクパターン転写領域Iと非転写領域との境界に隣接する非転写領域に、所定以上の幅を有する遮光部8を形成した。
請求項（抜粋）：
微細パターン転写用のマスクであって、透明基板上の転写領域に形成するマスクパターンを、実質的に露光に寄与する強度の光を透過させる透光部と実質的に露光に寄与しない強度の露光光を透過させる半透光部とで構成し、かつこの半透光部を通過する光の位相をシフトさせて該半透光部を通過した光の位相と前記透光部を通過した光の位相とを異ならしめることにより、前記透光部と半透光部との境界部近傍を通過した光が互いに打ち消しあうようにして境界部のコントラストを良好に保持できるようにしたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、前記マスクパターン転写領域と非転写領域との境界に隣接する非転写領域を実質的に露光に寄与しない強度の露光光を透過させる半透光部とし、かつ、この非転写領域の半透光部に所定以上の幅を有する遮光部を設けたことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (8件)
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