特許
J-GLOBAL ID:200903077325777700

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋本 正実
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-008721
公開番号(公開出願番号):特開平11-213329
出願日: 1998年01月20日
公開日(公表日): 1999年08月06日
要約:
【要約】【課題】 下部磁性膜と、その上方に形成され先端部下面が下部磁性膜の先端部上面に磁気ギャップを介して対向し、下部磁性膜とで先端部に磁気ギャップをもつ磁気回路を形成する上部磁性膜と、両磁性膜間の導体コイル層とを基板上に備えてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、トラック幅の高精度化及び狭小化を図る。【解決手段】 上部磁性膜を、先端側の上部第1磁性膜171と中央部から後端側に延出する上部第2磁性膜172とに分割し、下部磁性膜には降下面部12aを形成し、その降下面部上に形成された絶縁層13上面と下部磁性膜先端側部分上面とを連続する平坦面とし、その平坦面上方の磁気ギャップ膜14上の平坦面上に上部第1磁性膜を形成し、その上部第1磁性膜後端側の上面に上部第2磁性膜の先端部を接合する。また、上部第1磁性膜の先端側部分上面に保護膜18を形成する。
請求項(抜粋):
下部磁性膜と、この下部磁性膜上方に形成され先端部下面が下部磁性膜の先端部上面に磁気ギャップを介して対向し、これによって下部磁性膜とで先端部に磁気ギャップを有する磁気回路を形成する上部磁性膜と、上部,下部両磁性膜間を通って前記磁気回路と交差する導体コイル層とを、基板上に備えてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記上部磁性膜は、先端側の上部第1磁性膜と前記導体コイル層が位置する中央部から後端側に延出する上部第2磁性膜とに分割され、かつ前記下部磁性膜には、先端側部分を残して下方へ落込む降下面部が形成され、その降下面部上に形成された絶縁層上面と前記下部磁性膜先端側部分上面とが連続する平坦面とされ、その平坦面上方の前記磁気ギャップを形成する磁気ギャップ膜上の平坦面上に前記上部第1磁性膜が形成され、その上部第1磁性膜後端側の上面に前記上部第2磁性膜の先端部が接合され、上部第1磁性膜の先端側部分上面には、前記上部第2磁性膜の表面加工に対する保護膜が形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
FI (2件):
G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 D
引用特許:
審査官引用 (13件)
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