特許
J-GLOBAL ID:200903077351526120
パターン形成方法、平面ディスプレイ用部材の製造方法ならびにプラズマディスプレイ用部材およびフィールドエミッションディスプレイ用部材。
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-230122
公開番号(公開出願番号):特開2007-086772
出願日: 2006年08月28日
公開日(公表日): 2007年04月05日
要約:
【課題】露光光の回折、表面-マスク間反射、表面散乱を抑制することで、高精細なパターン形成方法を提供する。【解決手段】基材上に感光性有機成分を含むパターン形成層と、該パターン形成層上に位置するコート層の少なくとも2つ以上の層を設け、コート層側から露光を行った後に現像処理を行うパターン形成方法であって、該コート層が光褪色性材料を含み、かつ該コート層の屈折率N1とパターン形成層の屈折率N2が下式(1)を満たすことを特徴とするパターン形成方法。|N2-N1|<0.1 (1)【選択図】なし
請求項(抜粋):
基材上に感光性有機成分を含むパターン形成層と、該パターン形成層上に位置するコート層の少なくとも2つ以上の層を設け、コート層側から露光を行った後に現像処理を行うパターン形成方法であって、該コート層が光褪色性材料を含み、かつ該コート層の屈折率N1と該パターン形成層の屈折率N2が下式(1)を満たすことを特徴とするパターン形成方法。
|N2-N1|<0.1 (1)
IPC (4件):
G03F 7/11
, H01J 11/02
, H01J 1/304
, H01J 9/02
FI (5件):
G03F7/11 501
, H01J11/02 B
, H01J1/30 F
, H01J9/02 B
, H01J9/02 F
Fターム (65件):
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB14
, 2H025AB17
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC42
, 2H025CA00
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CC08
, 2H025CC15
, 2H025DA01
, 2H025DA02
, 2H025DA13
, 2H025DA32
, 2H025FA14
, 5C027AA09
, 5C040FA01
, 5C040FA04
, 5C040GD01
, 5C040GE01
, 5C040GF01
, 5C040GF18
, 5C040GF19
, 5C040GG03
, 5C040GG08
, 5C040GH06
, 5C040GJ02
, 5C040GJ08
, 5C040JA02
, 5C040JA12
, 5C040JA15
, 5C040KA08
, 5C040KA14
, 5C040KA16
, 5C040KA17
, 5C040KB02
, 5C040KB04
, 5C040KB09
, 5C040KB13
, 5C040KB24
, 5C040KB26
, 5C040KB28
, 5C040KB29
, 5C040MA23
, 5C040MA24
, 5C127AA01
, 5C127BA15
, 5C127BB07
, 5C127CC02
, 5C127DD15
, 5C127DD18
, 5C127DD43
, 5C127DD53
, 5C127DD64
, 5C127DD69
, 5C127EE20
, 5C135AA15
, 5C135AB07
, 5C135AC01
, 5C135HH20
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
特許第3553105号公報(請求項1等)
-
プラズマディスプレイの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-094297
出願人:東レ株式会社
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