特許
J-GLOBAL ID:200903077353904254
超・亜臨界流体処理システム及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
重信 和男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-329638
公開番号(公開出願番号):特開2003-126673
出願日: 2001年10月26日
公開日(公表日): 2003年05月07日
要約:
【要約】【課題】 特段の圧縮装置を用いることなく、超臨界あるいは亜臨界流体などの高圧流体利用プロセスに効率良く高圧場を形成できる超・亜臨界流体処理システムを提供すること。【解決手段】 この超・亜臨界流体処理システムは、流路内に形成された少なくとも1個の処理容器1内を超または亜臨界状態の高圧場とするためのシステムであり、プロセス流体に熱操作を施し、流体に熱膨張を与えて前記処理容器1と外部との間に圧力差を生じせしめることにより、前記処理容器1内において超または亜臨界流体の処理に適した所望の温度と高圧場とを得られることになる。
請求項(抜粋):
流路内に形成された少なくとも1個の処理容器内を超または亜臨界状態の高圧場とするためのシステムであり、プロセス流体に熱操作を施し、流体に熱膨張を与えて前記処理容器と外部との間に圧力差を生じせしめることにより、前記処理容器内において超または亜臨界流体の処理に適した所望の温度と高圧場とを得るようにしたことを特徴とする超・亜臨界流体処理システム。
IPC (10件):
B01J 3/00
, B01D 9/02 602
, B01D 9/02 603
, B01D 9/02 605
, B01D 9/02 611
, B01D 11/00
, B01J 3/02
, B01J 3/02 101
, B01J 3/04
, B01J 19/24
FI (10件):
B01J 3/00 A
, B01D 9/02 602 D
, B01D 9/02 603 H
, B01D 9/02 605
, B01D 9/02 611 B
, B01D 11/00
, B01J 3/02 A
, B01J 3/02 101 A
, B01J 3/04 C
, B01J 19/24 Z
Fターム (20件):
4D056AC02
, 4D056AC06
, 4D056AC21
, 4D056AC22
, 4D056BA16
, 4D056CA22
, 4D056CA37
, 4D056CA40
, 4G075AA37
, 4G075AA39
, 4G075AA61
, 4G075AA62
, 4G075BB03
, 4G075BB10
, 4G075CA02
, 4G075CA03
, 4G075CA05
, 4G075CA65
, 4G075EA05
, 4G075EB12
引用特許:
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