高分子量カルバゾール基含有ポリマー

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-228568
公開番号（公開出願番号）：特開2009-057528
出願日： 2007年09月04日
公開日（公表日）： 2009年03月19日
要約：

【課題】成形性、成形物の機械物性に優れたカルバゾール基含有ポリマーを提供すること【解決手段】本発明のカルバゾール基含有ポリマーは、特定の分子量を有することにより、成形性、成形物の機械物性に優れるのみならず、フォトリフラクティブ特性に優れるためフォトリフラクティブの用途において好適に用いることができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定された重量平均分子量(Mw)が200,000から2,000,000であるカルバゾール基含有ポリマー。

IPC (5件)：

C08F 26/12 , G03H 1/04 , G03H 1/22 , C08F 20/34 , G02F 1/361

FI (5件)：

C08F26/12 , G03H1/04 , G03H1/22 , C08F20/34 , G02F1/361

Fターム (15件)：

2K002BA01 , 2K002CA06 , 2K002GA10 , 2K002HA16 , 2K008AA04 , 2K008DD03 , 2K008DD12 , 2K008HH19 , 4J100AL08P , 4J100AQ26P , 4J100BC65P , 4J100CA01 , 4J100DA01 , 4J100DA61 , 4J100JA32

引用特許：

出願人引用 (4件)

ホログラム形成材料とホログラムの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-015830 出願人：富士通株式会社
プラスチック光導波路用組成物およびプラスチック光導波路の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-174379 出願人：富士通株式会社
光学材料、光学素子、回折光学素子、積層型回折光学素子、光学系及び光学素子の成形方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-068112 出願人：キヤノン株式会社

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審査官引用 (7件)

特開平2-016107
特開平2-016106
特開平2-024690

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