特許
J-GLOBAL ID：200903095533467039

光学材料、光学素子、回折光学素子、積層型回折光学素子、光学系及び光学素子の成形方法

発明者：
大金 政信

大金 政信 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-068112
公開番号（公開出願番号）：特開2004-004605
出願日： 2003年03月13日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【課題】室温での成形において光学材料の結晶化を抑制することができ、レプリカ成形に適した滴下量を適正に制御することが可能となる屈折率分散のより大きな光学材料を提供する。【解決手段】少なくとも、N-ビニルカルバゾールと、ポリビニルカルバゾール、及び光重合開始剤からなる光学材料を使用することにより、室温での成形において光学材料の結晶化を抑制することができ、レプリカ成形に適した滴下量を適正に制御することが可能となる。また、N-ビニルカルバゾールとポリビニルカルバゾールの割合を、N-ビニルカルバゾール/ポリビニルカルバゾール=90/10〜70/30とする事により、更に室温でのレプリカ成形に適した光学材料とする事ができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光重合により光学素子を成形する光学材料において、少なくともN-ビニルカルバゾールと、ポリビニルカルバゾール、及び光重合開始剤を含むことを特徴とする光学材料。
IPC (3件)：
G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  G02B5/18
FI (3件)：
G02B1/04 ,  G02B3/00 Z ,  G02B5/18
Fターム (7件)：
2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA33 ,  2H049AA39 ,  2H049AA48 ,  2H049AA63 ,  2H049AA64
引用特許：
審査官引用 (9件)
  • 特開平2-015269
  • 特開平3-121484
  • 特開平1-107207
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM