特許
J-GLOBAL ID：200903077413487062
エピスルフィド化合物およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-106867
公開番号（公開出願番号）：特開2001-288181
出願日： 2000年04月07日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】着色、曇りの少ない高屈折、高アッベ数を有する光学材料を可能とするエピスルフィド化合物を製造すること。【解決手段】下記(2)式(式中、R1は炭素数1〜10の炭化水素、R2、R3およびR4はそれぞれ炭素数1〜10の炭化水素基または水素を示す。Yは、S、O、SeまたはTeを示し、nは0〜5、mは0または1を表す。)で表されるエポキシ構造を1分子中に1個以上有するエポキシ化合物とチオ尿素を、水溶性溶媒と非水溶性溶媒の混合溶媒中において反応させ、次いで得られた反応液に、非水溶性溶媒および/または水溶性溶媒を加えて混合後分液し、非親水性層から下記(1)式で表されるエピスルフィド化合物を分離することにより、エピスルフィド化合物中のチオ尿素および副生する尿素等に由来する窒素含有量を5000ppm以下にした、該エピスルフィド化合物を提供する。
請求項（抜粋）：
窒素含有量が5000ppm以下であることを特徴とする下記(1)式で表されるエピチオ構造を1分子中に1個以上有するエピスルフィド化合物。【化1】(式中、R1 は炭素数1〜10の炭化水素、R2 、R3 およびR4 はそれぞれ炭素数1〜10の炭化水素基または水素を示す。Yは、S、O、SeまたはTeを示し、nは0〜5、mは0または1を表す。)
IPC (6件)：
C07D331/02
, C08G 75/08
, G02B 1/04
, G02C 7/02
, G11B 7/24 526
, C07B 61/00 300
C07D331/02
, C08G 75/08
, G02B 1/04
, G02C 7/02
, G11B 7/24 526 N
, C07B 61/00 300
4H039CA42
, 4H039CH90
, 4J030BA03
, 4J030BB03
, 4J030BC12
, 4J030BC13
, 4J030BC17
, 4J030BC19
, 4J030BC21
, 4J030BC22
, 4J030BD22
, 4J030BF19
, 4J030BG25
, 5D029KA01
