チオール化合物の製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金田暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-089966
公開番号（公開出願番号）：特開2001-342172
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2001年12月11日
要約：

【要約】【課題】高硫黄含有率のポリチオール化合物の容易な製造方法を提供する。【解決手段】一般式(1)HS-R1(-S-R2)n (1)(式中、nは1以上の整数を示し、R1は芳香族、脂肪族、脂環族、複素環、もしくは、鎖中に芳香環または硫黄原子を有する脂肪族、脂環族、複素環有機残基を示す。R2は保護基を示す。)で表される化合物と、メルカプト基と反応する官能基を有する化合物とを反応させた後、-S-R2を-SH化する事を特徴としたポリチオール化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(1)HS-R1(-S-R2)n (1)(式中、nは1以上の整数を示し、R1は芳香族、脂肪族、脂環族、複素環、もしくは、鎖中に芳香環または硫黄原子を有する脂肪族、脂環族、複素環有機残基を示す。R2は保護基を示す。)で表される化合物と、メルカプト基と反応する官能基を有する化合物とを反応させた後、-S-R2を-SH化する事を特徴とするチオール化合物の製造方法。

IPC (2件)：

C07C319/20 , C07C323/64

FI (2件)：

C07C319/20 , C07C323/64

Fターム (7件)：

4H006AA02 , 4H006AB46 , 4H006AC63 , 4H006TA04 , 4H006TB73 , 4H006TB74 , 4H006TB75

引用特許：

審査官引用 (7件)

チオアニソール誘導体およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-150156 出願人：住友精化株式会社
スルフィド基含有チオール化合物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-186372 出願人：株式会社日本触媒, エルフアトケムソシエテアノニム
新規含硫黄化合物及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-237799 出願人：住友精化株式会社

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