特許
J-GLOBAL ID：200903077501922054
気相成長装置の運転方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-253290
公開番号（公開出願番号）：特開2003-068650
出願日： 2001年08月23日
公開日（公表日）： 2003年03月07日
要約：
【要約】【課題】 二つの反応室と共通の一つの高周波発生器を備えた気相成長装置において、各反応室を用いて交互に気相成長反応を行わせる際、生産品に生ずる欠陥を減らすことができる運転方法を提供する。【解決手段】 一方の反応室R1では、誘導加熱用コイル7に高周波発生器9から高周波電圧を供給することによって、気相成長反応が行われ、その間、他方の反応室R2では、ウエーハ10の交換及びそれに付随する内部のパージが行われる。本発明の方法では、反応室R2で気相成長反応の終了後に、内部の水素ガスによるパージ及び窒素ガスによるパージを行う。次いで、ウエーハを交換した後、直ちに窒素ガスによるパージを行い、パージ終了後、少量の窒素ガスを流し続けて内部を無酸素雰囲気に保つ。その後、反応室R1における気相成長反応の終了のタイミングに合わせて、反応室R2内の水素ガスによるパージを行う。
請求項（抜粋）：
二つの反応室と、各反応室内にそれぞれ設けられた誘導加熱用コイルと、各誘導加熱用コイルに対して共通に設けられた一つの高周波発生器とを備え、この高周波発生器を用いて各誘導加熱用コイルを交互に作動させることにより各反応室の温度を上昇させて、各反応室において交互に気相成長反応を行わせる気相成長装置の運転方法において、それぞれの反応室にウエーハをセットした後、直ちに窒素ガスを用いてその内部のパージを行い、パージ終了後、当該反応室で温度上昇を開始する手前の所定の時点まで、その内部に少量の窒素ガスを流し続け、次いで、前記所定の時点に到達したとき、反応ガスの一部を構成するキャリアガスに相当するガスを用いて、当該反応室の内部のパージを行い、当該反応室の温度上昇を開始する時点に到達したとき、その内部に設けられた前記誘導加熱用コイルに前記高周波発生器から高周波電圧の供給を始めること、を特徴とする気相成長装置の運転方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
4K030EA03
, 4K030FA01
, 5F045DP13
, 5F045DQ14
, 5F045EE14
, 5F045EE18
, 5F045EK03
審査官引用 (8件)
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特開昭63-126216
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特開昭63-126216
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特開平3-112126
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