プラズマ処理装置のクリーニング方法およびその装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-262719
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091327
出願日： 1998年09月17日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【解決手段】プラズマクリーニングを反応生成物を除去する第一の工程と処理室内壁面に堆積膜を形成する第二の工程から構成する。【効果】処理室内壁に付着した堆積膜の除去を効果的行いウエハ処理枚数の増加にともなう塵埃の発生を抑制でき,歩留まりの向上,装置稼働率向上を図ることができる。

請求項（抜粋）：

処理室内に供給されたガスのプラズマを用いて試料に処理を施すプラズマ処理装置チャンバ内の残留物を除去するプラズマを用いたプラズマ処理装置のクリーニング方法であって,クリーニング処理は,エッチング反応生成物を除去するガスのプラズマを用いる第一の工程と,プラズマを発生させることにより導入したガスを分解して処理室内壁面に堆積膜を形成する第二の工程とからなることを特徴とするプラズマ処理装置のクリーニング方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 , C23F 4/00

FI (2件)：

H01L 21/302 N , C23F 4/00 E

Fターム (38件)：

4K057DA20 , 4K057DB05 , 4K057DB20 , 4K057DD01 , 4K057DD03 , 4K057DD08 , 4K057DE06 , 4K057DE08 , 4K057DE14 , 4K057DE20 , 4K057DG07 , 4K057DG08 , 4K057DG12 , 4K057DG13 , 4K057DM02 , 4K057DM04 , 4K057DM05 , 4K057DM06 , 4K057DM14 , 4K057DM17 , 4K057DM29 , 4K057DN01 , 5F004AA13 , 5F004AA15 , 5F004BA04 , 5F004BA09 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB18 , 5F004BD07 , 5F004CA09 , 5F004DA00 , 5F004DA01 , 5F004DA23 , 5F004DA26 , 5F004DB03 , 5F004DB09 , 5F004DB16

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平4-313223
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-128791 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-239130

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