特許

J-GLOBAL ID：200903077535065916

微細凹凸構造作製方法

発明者： 市川 裕之
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-182296
公開番号（公開出願番号）：特開2001-356486
出願日： 2000年06月16日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】【課題】 高い精度の実現が可能であり、且つ製造コストが低く量産に適した、波長乃至サブ波長の微細構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 凹凸形状の構造体をマスクを使用したリソグラフィーにより製造するにあたり、露光に使用する光の波長以下の平面寸法の凹凸形状を作製し得る程度に基板上のレジストの厚さを薄くすることを特徴とする微細凹凸構造作製方法。

請求項（抜粋）：

凹凸形状の構造体をマスクを使用したリソグラフィーにより製造するにあたり、露光に使用する光の波長以下の平面寸法の凹凸形状を作製し得る程度に基板上のレジスト層の厚さを薄くすることを特徴とする微細凹凸構造作製方法。

IPC (4件)：

G03F 7/20 501 ,  B81C 1/00 ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/26 501

FI (4件)：

G03F 7/20 501 ,  B81C 1/00 ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/26 501

Fターム (21件)：

2H049AA03 ,  2H049AA07 ,  2H049AA13 ,  2H049AA31 ,  2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA44 ,  2H049AA45 ,  2H049AA48 ,  2H049AA51 ,  2H049AA55 ,  2H096AA25 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096CA12 ,  2H096CA20 ,  2H097CA11 ,  2H097FA06 ,  2H097LA10 ,  2H097LA15 ,  2H097LA17

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光露光または転写方法および装置またはそのためのマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-319781   出願人：株式会社日立製作所
• 微細パターンの転写加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-136146   出願人：株式会社荏原製作所, 畑村洋太郎