特許
J-GLOBAL ID：200903077562678741

熱処理装置および熱処理方法

発明者：
齋藤 幸正

齋藤 幸正 について

, 
齋藤 孝規

齋藤 孝規 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-257187
公開番号（公開出願番号）：特開2003-068657
出願日： 2001年08月28日
公開日（公表日）： 2003年03月07日
要約：
【要約】【課題】 処理容器の排気口の端面付近における副生成物の付着を抑制して被処理体のパーティクル汚染を防止する。【解決手段】 排気口6を有する処理容器2内に被処理体wを収容して所定の処理ガス雰囲気下で所定の熱処理を施す熱処理装置1であって、前記排気口6の端面6aに気密材29を介して排気管7を接続し、前記排気口6の端面6a付近における副生成物の付着を抑制すべく内周面から気体を吹出す複数の気体吹出し部40を有する内管41を排気管7内から排気口6内の所定範囲に設けている。
請求項（抜粋）：
排気口を有する処理容器内に被処理体を収容して所定の熱処理を施す熱処理装置であって、前記排気口の端面に気密材を介して排気管を接続し、前記排気口の端面付近における副生成物の付着を抑制すべく内周面から気体を吹出す複数の気体吹出し部を有する内管を排気管内から排気口内の所定範囲に設けたことを特徴とする熱処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/455 ,  F27B 5/16 ,  F27D 17/00 105 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31
FI (7件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/455 ,  F27B 5/16 ,  F27D 17/00 105 G ,  H01L 21/22 511 S ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/31 E
Fターム (21件)：
4K030EA11 ,  4K056AA09 ,  4K056BA01 ,  4K056BB03 ,  4K056BB05 ,  4K056CA06 ,  4K056CA18 ,  4K056DC05 ,  4K056EA01 ,  4K061AA01 ,  4K061BA11 ,  4K061DA05 ,  4K061HA05 ,  4K061HA07 ,  5F045AA03 ,  5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AF03 ,  5F045BB15 ,  5F045EF20 ,  5F045EG08
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 熱処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-340502   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
  • 熱処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-173223   出願人：株式会社東芝

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