被検査対象物上のパターンの欠陥検査方法及びその装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小川勝男 , 田中恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-212010
公開番号（公開出願番号）：特開2005-003689
出願日： 2004年07月20日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】微細なパターンを高い分解能で検出する欠陥検査方法、その装置及び半導体基板を高歩留まりで製造する方法を提供する。【解決手段】 Xeランプ3、楕円鏡4、マスク5とからなる輪帯状の照明を形成するランプハウス24は、輪帯状の照明光を、XYZステージ2上に載置された微細パターンを形成したウエハ(被検査対象物)1を、コリメータレンズ6、光量調整用フイルタ14及びコンデンサレンズ7を介して、円又は楕円偏光変換素子により円又は楕円偏光させて、対物レンズ9を介して照明し、その反射光をハーフミラー8a、8b、ズームレンズ13を介し、反射光の画像をイメージセンサ12aにより検出する。ステージXYZを移動させ、センサ12aにより走査し画像信号を得る。この画像出力をA/D変換器15aにより変換して基準画像と比較して不一致を欠陥として検出するものである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

多数の仮想の点光源から形成された輪帯状の拡散照明光を対物レンズの瞳を通して被検査対象物上のパターンに対して集光して照射し、この集光照射された輪帯状の拡散照明光によって被検査対象物上のパターンから反射して前記対物レンズの瞳内に入射する0次回折光を含む1次または2次の回折光を集光して得られる被検査対象物上のパターンの画像をイメージセンサにより受光してパターンの画像信号に変換し、このパターンの画像信号に基づいて被検査対象物上のパターンを検出することを特徴とする被検査対象物上のパターンの検出方法。

IPC (3件)：

G01N21/956 , G01B11/24 , H01L21/66

FI (4件)：

G01N21/956 A , H01L21/66 J , G01B11/24 D , G01B11/24 F

Fターム (76件)：

2F065AA21 , 2F065AA49 , 2F065AA56 , 2F065BB02 , 2F065BB18 , 2F065CC01 , 2F065CC19 , 2F065CC25 , 2F065DD03 , 2F065DD09 , 2F065EE03 , 2F065FF41 , 2F065FF48 , 2F065GG03 , 2F065GG04 , 2F065GG17 , 2F065GG22 , 2F065HH02 , 2F065HH09 , 2F065HH10 , 2F065HH12 , 2F065HH13 , 2F065HH14 , 2F065HH16 , 2F065JJ02 , 2F065JJ03 , 2F065JJ25 , 2F065JJ26 , 2F065LL00 , 2F065LL04 , 2F065LL06 , 2F065LL09 , 2F065LL20 , 2F065LL22 , 2F065LL24 , 2F065LL30 , 2F065NN01 , 2F065NN11 , 2F065PP12 , 2F065PP13 , 2F065PP24 , 2F065QQ03 , 2F065QQ11 , 2F065QQ24 , 2F065RR02 , 2F065RR08 , 2G051AA51 , 2G051AA65 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051AC30 , 2G051BA08 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BA20 , 2G051BB07 , 2G051BB09 , 2G051BB20 , 2G051BC01 , 2G051CA04 , 2G051CA07 , 2G051CB01 , 2G051CB06 , 2G051CC07 , 2G051CC09 , 2G051DA07 , 2G051DA08 , 2G051EA12 , 2G051EC01 , 2G051ED04 , 2G051ED08 , 4M106AA01 , 4M106DB04 , 4M106DB19 , 4M106DJ11 , 4M106DJ18

引用特許：

出願人引用 (1件)

露光方法及びその装置並びに露光方式並びにマスク回路パターン検査方式
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-315976 出願人：株式会社日立製作所

前のページに戻る