特許
J-GLOBAL ID:200903077594133658
エゼクタ式真空発生器
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-366784
公開番号(公開出願番号):特開2001-295800
出願日: 2000年12月01日
公開日(公表日): 2001年10月26日
要約:
【要約】【課題】 低い供給圧力においても所望の真空度が得られる高効率のエゼクタ式真空発生器を得る。【解決手段】 エゼクタ式真空発生器10のノズル本体14に設けたノズル24を、従来の円形ノズルと吹出し口の面積をほぼ同じとしつつ、ノズル吹出し口の内周を径方向に凹凸させてその凹凸が滑らかな曲線で結ばれた菊形状とする。これにより、ノズル24から噴射される噴流は円形ノズルの噴流に比べてせん断層が大きくされ、噴流周囲との混合が促進されて真空用配管接続部44に高い吸引力が発生する。
請求項(抜粋):
圧力流体供給ポートに供給された流体をノズルからディフューザー内へと噴射し、このディフューザー内へ噴射された前記流体を排気ポートから排出することにより、前記ノズルと前記ディフューザーの流体流入口との間に設けられた真空ポートに負圧を発生するエゼクタ式真空発生器において、前記ノズルを円形としたときの吹出し口の面積とほぼ同一面積とし、かつ、前記吹出し口の内周長よりも長い内周長を備えた異形ノズルを有することを特徴とするエゼクタ式真空発生器。
IPC (3件):
F04F 5/20
, F04F 5/22
, F04F 5/46
FI (3件):
F04F 5/20 C
, F04F 5/22
, F04F 5/46 B
Fターム (8件):
3H079AA18
, 3H079AA23
, 3H079AA28
, 3H079BB01
, 3H079CC03
, 3H079CC19
, 3H079DD03
, 3H079DD16
引用特許: