特許

J-GLOBAL ID：200903077641330793

ウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法

発明者： 立野 護
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-277657
公開番号（公開出願番号）：特開平8-139169
出願日： 1994年11月11日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：

【要約】【構成】 突起部形成箇所にマスク材が貼り付けられた平板状のセラミックス基材表面にサンドブラスト加工処理を施し、セラミックス基材に突起部11aを形成した後、さらにセラミックス基材の突起部11aが形成された部分に砥粒を付着させたブラシを用いてブラシ研磨処理を施し、突起部11aを先鋭化するウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法。【構成】 ウエハと接触する突起部11cの先端部分の平面の直径を0.2mm以下と小さくすることができ、かつ裾野の広い山形の、折れにくい形状を有する突起部11cを形成することができる。このウエハ保持台用セラミックス部材を使用することにより、ウエハとの接触面積を小さくすることができ、ウエハとウエハ保持台との間に入り込む塵埃が原因となる半導体装置の回路形成の際の露光不良を大きく低減させることができる。

請求項（抜粋）：

突起部形成箇所にマスク材が貼り付けられた平板状のセラミックス基材表面にサンドブラスト加工処理を施し、該セラミックス基材に突起部を形成した後、さらに前記セラミックス基材の突起部が形成された部分に砥粒を付着させたブラシを用いてブラシ研磨処理を施すことを特徴とするウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  B24C 1/04

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭62-024639
  
• ウェハ真空吸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-123236   出願人：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社

審査官引用 (2件)

• ウェハ真空吸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-123236   出願人：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
• 特開昭62-024639