特許
J-GLOBAL ID：200903077655629341
蛍光X線分析方法および装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-232309
公開番号（公開出願番号）：特開平11-072449
出願日： 1997年08月28日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 試料から発生する蛍光X線の強度を測定する蛍光X線分析において、試料の高さを簡単かつ適切に設定できる蛍光X線分析方法および装置を提供する。【解決手段】 測定中心Qに位置する試料部位から発生する蛍光X線5の強度を測定する蛍光X線分析方法において、測定中心Qに向けてレーザ光14を照射し、試料1を上下させて、測定中心Qを直下に臨む撮像手段12からの画像において、試料表面1aにおけるレーザ光14の照射点を画像の中心に位置させることにより、画像の中心に見える試料表面1aの点を測定中心Qに位置させる。
請求項（抜粋）：
測定中心に向けて1次X線を照射し、その測定中心に位置する試料部位から発生する蛍光X線の強度を測定する蛍光X線分析方法において、前記測定中心に、試料表面の任意の点を位置させるにあたり、前記測定中心に向けてレーザ光を照射し、試料を上下させて、前記測定中心を直下に臨むように設置した撮像手段により得られた画像において、試料表面におけるレーザ光の照射点を画像の中心に位置させることにより、画像の中心に見える試料表面の点を前記測定中心に位置させることを特徴とする蛍光X線分析方法。
IPC (3件)：
G01N 23/223
, G01B 11/00
, G21K 5/00
G01N 23/223
, G01B 11/00 H
, G21K 5/00 R
