特許

J-GLOBAL ID：200903077656265394

プラズマ処理装置

発明者： 田村 仁
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 特許業務法人第一国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-216082
公開番号（公開出願番号）：特開2007-035411
出願日： 2005年07月26日
公開日（公表日）： 2007年02月08日
要約：

【課題】プラズマの高い均一性とプラズマの安定性を高めたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】内部が減圧排気される処理室51と、処理室内に設けられ被処理基板71が配置される基板電極52とを有するプラズマ処理装置1において、処理室51の中心軸と略同心に設置されたプラズマ発生用電磁波の同軸線路からなる導入経路16と、電磁波を複数の出力ポートに分配する分岐回路21と、分岐回路の出力ポート24に接続され、プラズマ発生用電磁波の導入経路と略同心に設置され、共振空洞32底部に心軸に対し放射状に配置したスロット33を有するリング状空洞共振器31とを備えた。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

内部が減圧排気される処理室と、 前記処理室内に設けられ被処理基板が配置される基板電極と、 前記処理室内にプラズマ発生用電磁波によりプラズマを発生させるプラズマ発生装置と、 前記処理室内に処理ガスを供給する供給系と、 前記処理室内を排気するための真空排気系とを有するプラズマ処理装置において、 前記処理室の中心軸と同心に設置されたプラズマ発生用電磁波の導入経路と、 該電磁波を複数の出力ポートに分配する分岐回路と、 該分岐回路の出力ポートに接続され、前記プラズマ発生用電磁波の導入経路と同心に設置されたリング状空洞共振器とを備えた ことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/306

FI (2件)：

H05H1/46 B ,  H01L21/302 101D

Fターム (5件)：

5F004AA01 ,  5F004BA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB28

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プラズマ処理装置およびその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-078934   出願人：株式会社日立製作所