特許
J-GLOBAL ID:200903077686064830

バナジウムアンチモン酸化物触媒の表面修飾および増進

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-263350
公開番号(公開出願番号):特開平9-103677
出願日: 1995年10月11日
公開日(公表日): 1997年04月22日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 アンモ酸化方法による低級パラフィンからの不飽和モノニトリルの製造などに利用され得る、高性能の触媒を提供する。【解決手段】 下記式を有する触媒及びその製造方法;AはTi、Sn、Fe、Cr、Ga、Li、Mg、Ca、Sr、Ba、Co、Ni、Zn、Ge、Nb、Zr、Mo、W、Cu、Te、Ta、Se、Bi、Ce、In、As、B、およびMnのうちの1つまたはそれ以上であり、Dは、Li、Ag、Fe、Co、Cu、Cr、Mn、(VO)2+、(PW12O40)3-、および(PMo12O40)3-のうちの1つまたはそれ以上である。xは、原子価の必要性を満足するために必要な酸素イオンの数である。
請求項(抜粋):
以下の実験式を有する触媒を製造するための方法であって;【化1】ここで、AはTi、Sn、Fe、Cr、Ga、Li、Mg、Ca、Sr、Ba、Co、Ni、Zn、Ge、Nb、Zr、Mo、W、Cu、Te、Ta、Se、Bi、Ce、In、As、B、およびMnのうちの1つまたはそれ以上であり、Dは、Li、Ag、Fe、Co、Cu、Cr、Mn、(VO)2+、(PW12O40)3-、および(PMo12O40)3-のうちの1つまたはそれ以上であり、mは約0.5から10であり、aは0.01から10であり、dは0.0001から2.0、好ましくは0.0001から0.1であり、xは、原子価の必要性を満足するために必要な酸素イオンの数である;式VSbmAaOx(ここで、m、A、a、およびxは、上記に定義されている)を有する触媒前駆物質を形成する工程;少なくとも1つのDエレメントを該触媒前駆物質の表面に添加する工程;ならびに該表面修飾触媒前駆物質をか焼して該触媒を製造する工程;を包含する方法。
IPC (15件):
B01J 23/22 ,  B01J 23/16 ,  B01J 23/26 ,  B01J 23/34 ,  B01J 23/68 ,  B01J 23/84 ,  B01J 23/847 ,  B01J 23/89 ,  B01J 27/057 ,  B01J 27/186 ,  B01J 37/08 ,  B01J 37/30 ,  C07C253/24 ,  C07C255/08 ,  C07B 61/00 300
FI (15件):
B01J 23/22 Z ,  B01J 23/16 Z ,  B01J 23/26 ,  B01J 23/34 Z ,  B01J 23/68 Z ,  B01J 23/84 Z ,  B01J 23/89 Z ,  B01J 27/057 ,  B01J 27/186 Z ,  B01J 37/08 ,  B01J 37/30 ,  C07C253/24 ,  C07C255/08 ,  C07B 61/00 300 ,  B01J 23/84 301 Z
引用特許:
審査官引用 (4件)
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