特許
J-GLOBAL ID：200903077711614786
超解像光ディスク金型・スタンパーとその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江原 省吾 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-107653
公開番号（公開出願番号）：特開2003-323748
出願日： 2003年04月11日
公開日（公表日）： 2003年11月14日
要約：
【要約】【目的】 母型表面粗さと母型のフォトレジスト層上で先行露光する現象とを改善できる超解像光ディスク母型・スタンパーとその製造方法を提供する。【解決手段】 基板を提供するステップと、基板上に超解像構造を形成するステップと、超解像構造上にフォトレジスト層を形成するステップと、対物レンズを提供するステップと、露光光源を提供し、露光光源が、対物レンズを介して基板へ照射され、フォトレジスト層に対する露光を行うものであって、露光光源が、超解像構造を介してフォトレジスト層を照射し、複数個の記録領域上のフォトレジスト層を露光するステップと、複数個の記録領域上のフォトレジスト層を除去して光ディスク母型を形成するステップと、光ディスク母型上に金属薄膜を形成するステップと、金属薄膜上に電鋳層を形成するステップと、金属薄膜および電鋳層を光ディスク母型から離型して光ディスクスタンパーを形成するステップとから構成される。
請求項（抜粋）：
基板を提供するステップと、前記基板上に超解像構造を形成するステップと、前記超解像構造上にフォトレジスト層を形成するステップと、対物レンズを提供するステップと、露光光源を提供し、前記露光光源が、前記対物レンズを介して前記基板へ照射され、前記フォトレジスト層に対する露光を行うものであって、前記露光光源が、前記超解像構造を介して前記フォトレジスト層を照射し、複数個の記録領域上の前記フォトレジスト層を露光するステップと、前記した複数個の記録領域上の前記フォトレジスト層を除去するステップとを具備する超解像光ディスク金型の製造方法。
Fターム (3件)：
5D121CB03
, 5D121CB05
, 5D121DD18
