特許
J-GLOBAL ID：200903077713624100
プラズマ発生装置及びプラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷川 昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-065812
公開番号（公開出願番号）：特開平8-264519
出願日： 1995年03月24日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：
【要約】【目的】低真空度下又は常圧下で被処理物にプラズマを発生させることができ、しかも酸素元素やハロゲン元素等を有する活性ガスを含むプラズマ原料ガスを用いてもプラズマソースの消耗が少なく、長期に亘り安定して使用できるプラズマ発生装置と、このプラズマ発生装置を備えていることにより、室内各部並びに被処理物の汚染が抑制されるプラズマ処理装置を提供する。【構成】プラズマ生成室1及びこれに連設したプラズマ処理室2のうち室1にプラズマ原料ガスを導入するとともに室2にプラズマ処理用ガスを導入し、室1において炭素含有物質からなるプラズマソース23へマイクロ波を照射することにより原料ガスをプラズマし、発生したイオンを室2へ加速導入して処理用ガスをプラズマ化し、このプラズマのもとで被処理物S1に所定の処理を施す。
請求項（抜粋）：
プラズマ生成室と、該プラズマ生成室にプラズマ原料ガスを供給する手段と、前記プラズマ生成室に設置した炭素含有物質からなるプラズマソースと、該プラズマソースにマイクロ波を照射する手段とを備えたことを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (6件)：
H01L 21/31
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
, H05H 1/46
H01L 21/31 C
, C23C 16/50
, C23F 4/00 D
, H01L 21/205
, H05H 1/46 B
, H01L 21/302 B
