特許
J-GLOBAL ID:200903077731930650
ハイドレート製造輸送方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 信一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-297324
公開番号(公開出願番号):特開2003-095998
出願日: 2001年09月27日
公開日(公表日): 2003年04月03日
要約:
【要約】【課題】ハイドレートの輸送効率を向上しうるハイドレートの製造輸送方法を提供すること。【解決手段】メタンを主体とする混合ガスaを、所定温度以下、平衡圧力以上の圧力で水bに混合接触させてハイドレートaを生成し、該ハイドレートdを水bと一緒にスラリー貯槽3に移送する。スラリー貯槽3でスラリーから余分な水bを除去してスラリー濃度を高め、しかる後に、スラリー濃度の高いハイドレートをスラリー貯槽3ごと中継基地に輸送する。
請求項(抜粋):
メタンを主体とする混合ガスを、所定温度以下、平衡圧力以上の圧力で水または不凍液に混合接触させてハイドレートを生成し、該ハイドレートを水または不凍液と一緒にスラリー貯槽に移送し、該スラリー貯槽にて余分な水または不凍液を除去してスラリー濃度を高め、しかる後に、スラリー濃度の高いハイドレートをスラリー貯槽ごと中継基地に輸送することを特徴とするハイドレート製造輸送方法。
IPC (4件):
C07C 5/00
, C07B 63/02
, C07C 7/20
, C07C 9/04
FI (4件):
C07C 5/00
, C07B 63/02 B
, C07C 7/20
, C07C 9/04
Fターム (8件):
4H006AA02
, 4H006AA05
, 4H006AC93
, 4H006AD33
, 4H006AD40
, 4H006BC10
, 4H006BC11
, 4H006BE60
引用特許: