薄膜の製造方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺望稔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-084170
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273619
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【課題】サーモクロミック特性を示すVO2 を主成分とする薄膜を簡便に、再現性よく製造できる方法の提供。【解決手段】酸化バナジウムを含有するターゲットを用い、H2 ガスを含有する雰囲気で反応性スパッタリング法を行い、VO2 を主成分とする薄膜を基体上に製造する薄膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

酸化バナジウムを含有するターゲットを用い、H2 ガスを含有する雰囲気で反応性スパッタリング法を行い、VO2 を主成分とする薄膜を基体上に製造する薄膜の製造方法。

IPC (2件)：

C23C 14/08 , C23C 14/35

FI (2件)：

C23C 14/08 G , C23C 14/35 Z

Fターム (3件)：

4K029BA43 , 4K029CA06 , 4K029DC05

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭58-135154
特公昭45-020967
特開昭62-190612

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審査官引用 (5件)

特開昭58-135154
特公昭45-020967
特開昭62-190612

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