特許
J-GLOBAL ID：200903077745674508
熱転写材料及びレーザ熱転写記録方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-167406
公開番号（公開出願番号）：特開2000-355177
出願日： 1999年06月14日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
要約：
【要約】【課題】 レーザ熱転写記録時に高速に真空引きが行え、かつ熱転写受像材料との間の密着性に優れ、高出力レーザにより高精細で、高画質な画像を高速に形成しうる熱転写材料及びレーザ熱転写記録方法を提供する。【解決手段】 支持体上に光熱変換層と画像形成層とを有する熱転写材料において、前記画像形成層表面のスムースター値が2mmHg以下であり、かつ中心線平均表面粗さRaが0.03〜0.2μmである熱転写材料。画像形成層が、全固形分重量に対する、粒径1μm以上の顔料粒子含有量が3重量%以下である塗布液を塗布乾燥してなる態様が好ましい。熱転写材料及び前記熱転写受像材料を積層した積層体をマルチモード半導体レーザにより照射した後、剥離して画像形成するレーザ熱転写記録方法。
請求項（抜粋）：
支持体上に光熱変換層と画像形成層とを有する熱転写材料において、前記画像形成層表面のスムースター値が2mmHg以下であり、かつ中心線平均表面粗さRaが0.03〜0.2μmであることを特徴とする熱転写材料。
IPC (2件)：
FI (3件)：
B41M 5/26 F
, B41M 5/26 Q
, B41M 5/26 B
2H111AA04
, 2H111AA26
, 2H111AA31
, 2H111AA35
, 2H111AA47
, 2H111AA50
, 2H111BA03
, 2H111BA07
, 2H111BA17
, 2H111BA38
, 2H111BA61
, 2H111BA63
, 2H111DA02
