特許
J-GLOBAL ID:200903077755589363
共役高分子の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
久保山 隆
, 中山 亨
, 榎本 雅之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-328448
公開番号(公開出願番号):特開2007-023252
出願日: 2005年11月14日
公開日(公表日): 2007年02月01日
要約:
【課題】共役高分子の製造方法を提供すること。【解決手段】A) ホウ素含有官能基を少なくとも2つ有する芳香族モノマーと反応性官能基を少なくとも2つ有する芳香族モノマー、又は、B) 反応性官能基及びホウ素含有官能基を夫々少なくとも1つ同一分子内に有する芳香族モノマーを、有機溶媒の存在下で,触媒量のパラジウム錯体を用いて重合反応させる共役高分子の製造方法であって、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ金属のアルコキシド、アルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ土類金属のアルコキシドの群から選ばれる少なくとも一つ、及びアルキルホスフィン配位子を用いることを特徴とする製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
A) ホウ素含有官能基を少なくとも2つ有する芳香族モノマーと反応性官能基を少なくとも2つ有する芳香族モノマー、
又は、
B) 反応性官能基及びホウ素含有官能基を夫々少なくとも1つ同一分子内に有する芳香族モノマー
を、有機溶媒の存在下で,触媒量のパラジウム錯体を用いて重合反応させる共役高分子の製造方法であって、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ金属のアルコキシド、アルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ土類金属のアルコキシドの群から選ばれる少なくとも一つ、及びアルキルホスフィン配位子を用いることを特徴とする製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (15件):
4J032BA03
, 4J032BA08
, 4J032BA13
, 4J032BB03
, 4J032BB06
, 4J032BC03
, 4J032CA02
, 4J032CA03
, 4J032CA14
, 4J032CA32
, 4J032CB04
, 4J032CC03
, 4J032CD02
, 4J032CD07
, 4J032CE03
引用特許:
出願人引用 (3件)
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共役ポリマーの製造方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-517007
出願人:ザダウケミカルカンパニー
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特許第3310658号
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US2004/0260090
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