特許
J-GLOBAL ID:200903077818063839

光ファイバ、光ファイバ母材の製造方法、及び光ファイバの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-325245
公開番号(公開出願番号):特開2003-131060
出願日: 2001年10月23日
公開日(公表日): 2003年05月08日
要約:
【要約】【課題】 線引時の張力制御が容易化されて伝送損失を低減することが可能な光ファイバ、光ファイバ母材の製造方法、及び光ファイバの製造方法を提供する。【解決手段】 Fが添加されたコア領域100と、コア領域100よりも大きい添加量でFが添加されたクラッド領域200のクラッド層201とを備える光ファイバを形成する。そして、最外クラッド層となるクラッド層201の外周を含む外縁部205内において、クラッド層201内でのFの最小添加量となる所定の添加量までFの添加量が順次減少していくように構成する。このとき、コア領域100の粘性が小さくなり、また、外縁部205の粘性が大きくなるので、光ファイバ内に加わる応力が好適に分散される。これにより、コアへの応力集中が抑制されて線引時の張力制御が容易化され、伝送損失が低減される。
請求項(抜粋):
屈折率を下げるフッ素が添加されたコア領域と、前記コア領域の外周に設けられ、前記コア領域よりも大きい添加量でフッ素が添加された1層または複数層のクラッド層を有するクラッド領域と、を備え、前記1層または複数層のクラッド層のうちで最も外側に位置する最外クラッド層は、その外周を含む外縁部内において、層内でのフッ素の最小添加量となる所定の添加量までフッ素の添加量が順次減少していくように構成されていることを特徴とする光ファイバ。
IPC (3件):
G02B 6/22 ,  C03B 37/014 ,  G02B 6/00 356
FI (3件):
G02B 6/22 ,  C03B 37/014 Z ,  G02B 6/00 356 A
Fターム (8件):
2H050AB05X ,  2H050AB10X ,  2H050AB10Y ,  2H050AB18X ,  2H050AC34 ,  2H050AC36 ,  4G021CA13 ,  4G021CA14
引用特許:
審査官引用 (5件)
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