レーザ干渉変位測定方法およびレーザ干渉変位測定装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：牛木護 , 外山邦昭 , 清水栄松
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-290013
公開番号（公開出願番号）：特開2006-105669
出願日： 2004年10月01日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：

【課題】従来よりも高速に、被対象物の変位を正確に測定することができるレーザ干渉変位測定方法およびレーザ干渉変位測定装置を提供する。【解決手段】正弦波状に変調した注入電流i(t)をレーザ光源10に入力する。レーザ光源10からの光は、被対象物Oの表面とファイバ32の出射端面に各々反射して干渉し、この干渉光がフォトダイオード41によって電気的な干渉信号S(t)に変換される。レーザ光源10に入力する注入電流i(t)は、急激な立上がりや立下りのない正弦波状の変化を繰り返すため、干渉信号S(t)を正しくサンプリング取得できる。そのため、当該サンプリング取得した複数の干渉信号S(t)の演算処理によって、被対象物Oの変位を正しく測定できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

正弦波状に変調した注入電流をレーザ光源に入力し、波長を時間的に変化させながら当該レーザ光源から光を発生させる第1の工程と、前記光を分割して被対象物の表面と参照面に各々反射させた後、前記被対象物表面からの物体光と前記参照面からの参照光を合成して干渉光を得る第2の工程と、前記干渉光を電気的な干渉信号に変換する第3の工程と、前記正弦波状の変調周波数を基準として一定間隔で前記干渉信号をサンプリング取得し、このサンプリング取得した信号を演算処理して前記被対象物の変位を測定する第4の工程と、を含むことを特徴とするレーザ干渉変位測定方法。

IPC (1件)：

G01B 11/00

FI (1件)：

G01B11/00 G

Fターム (11件)：

2F065AA06 , 2F065AA09 , 2F065DD06 , 2F065EE03 , 2F065FF51 , 2F065GG06 , 2F065JJ01 , 2F065JJ18 , 2F065LL02 , 2F065NN02 , 2F065QQ00

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開平4-169817号公報

審査官引用 (4件)

周波数変調光ファイバ変位測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-211430 出願人：チィングホォアユニバーシティ, 下河辺明, 株式会社東京精密
特開平1-039505
特開昭60-203801

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