リソグラフィー用反射防止膜形成組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萼経夫 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-044664
公開番号（公開出願番号）：特開2002-323771
出願日： 2002年02月21日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：

【要約】【課題】反射光防止効果が高く、レジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたレジストパターンが得られ、レジストに比較して大きなドライエッチング速度を有するリソグラフィー用反射防止膜を形成する組成物を提供するものである。【解決手段】マレイミドまたはマレイミド誘導体からなる構造単位を含む樹脂を含有する半導体装置製造のリソグラフィープロセスに用いる反射防止膜形成組成物。前記樹脂は主鎖または側鎖にマレイミドまたはその誘導体からなる構造単位を含み、そして樹脂の重量平均分子量は700〜1000000である。

請求項（抜粋）：

マレイミドまたはその誘導体からなる構造単位を含む樹脂を含有する、半導体装置製造のリソグラフィープロセスに用いる反射防止膜形成組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/11 503 , C08F 22/40 , C08K 5/00 , C08L 35/00 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/11 503 , C08F 22/40 , C08K 5/00 , C08L 35/00 , H01L 21/30 574

Fターム (35件)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB10 , 2H025CC17 , 2H025DA34 , 4J002BH021 , 4J002ET016 , 4J002EU186 , 4J002FD146 , 4J002FD310 , 4J002GP03 , 4J100AJ02Q , 4J100AL03Q , 4J100AL04Q , 4J100AL09Q , 4J100AM43P , 4J100AM45P , 4J100AM47P , 4J100AM48P , 4J100BA03P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100DA64 , 4J100JA38 , 5F046PA07

引用特許：

審査官引用 (4件)

光吸収性ポリマーおよびその反射防止膜への応用
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-066626 出願人：クラリアントジャパン株式会社
反射防止膜又は光吸収膜用組成物及びこれに用いる重合体
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-275652 出願人：クラリアントジャパン株式会社
高正角性抗反射コ-ティング組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-009836 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー

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