材料の選定方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：亀谷美明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-060355
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258918
出願日： 1999年03月08日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】【課題】使用時に雰囲気に曝される塗布現像処理装置の構成材料等を的確に選定することが可能な材料の選定方法を提供する。【解決手段】捕集装置100の容器102は,塗布現像処理装置内と同一の23°Cに設定され,該容器102内のホルダ108上に検体Sとしての塗布現像処理装置の構成材料等の候補材料を載置する。容器102内に塗布現像処理装置内と同一の23°Cで湿度が45%のN2を層流状態で供給し,検体SをN2に曝す。検体Sから放出されたガス成分は,N2とともにインピンジャ134内に導かれ,超純水W4に捕集される。捕集液W4に含まれるガス成分の定性および定量分析をイオンクロマトグラフ装置等で行う。分析結果から,材料を選定するためのデータとなる塗布現像処理装置内での材料の上限使用量や,イニシャル汚染除去期間が求められる。

請求項（抜粋）：

塗布現像処理装置を構成する材料および/または前記塗布現像処理装置内に配される装置機器類を構成する材料の選定を行う方法であって:前記材料の候補となる検体を恒温雰囲気に維持された気密容器内に配する第1工程と;前記容器内に少なくとも温度と湿度と流速が調整された不活性ガスを導入し,前記検体を検査雰囲気に曝す第2工程と;前記不活性ガスを捕集液中に導入し,前記不活性ガスに含まれるガス成分を捕集する第3工程と;前記捕集液に含まれる前記ガス成分の定性分析および/または定量分析を行う第4工程と;前記定性分析および/または前記定量分析の結果から,前記材料の選定を行う第5工程と;を含むことを特徴とする,材料の選定方法。

IPC (2件)：

G03F 7/30 501 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/30 501 , H01L 21/30 564 C

Fターム (6件)：

2H096AA25 , 2H096CA12 , 2H096GA21 , 2H096LA16 , 5F046JA05 , 5F046JA27

引用特許：

審査官引用 (3件)

ガス捕集装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-345389 出願人：株式会社大林組
特開平3-041341
特開平3-041341

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