特許
J-GLOBAL ID：200903077927544570

反射防止フィルム

発明者：
西田 三博

西田 三博 について

, 
吉川 雅人

吉川 雅人 について


出願人/特許権者：
株式会社ブリヂストン

株式会社ブリヂストン について


代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-419933
公開番号（公開出願番号）：特開2005-181544
出願日： 2003年12月17日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：
【課題】透明樹脂フィルムを劣化させることなく、短時間で透明樹脂フィルムに屈折率の低い低屈折率層を成膜することができ、連続生産が可能で、耐擦傷性、耐薬品性等にも優れた塗工型の光吸収型反射防止フィルムを提供する。【解決手段】透明基材フィルム1上に、易接着層2、ハードコート層3、透明導電層4、光吸収層5及び低屈折率層6をこの順で積層してなる反射防止フィルム、或いは、透明基材フィルム上に、ハードコート層、導電性光吸収層及び低屈折率層をこの順で積層してなる反射防止フィルム。該低屈折率層6は中空のシリカ微粒子と、多官能(メタ)アクリル系化合物と、光重合開始剤とを含む塗膜に、酸素濃度が0〜10000ppmの雰囲気下で紫外線を照射することにより硬化させてなる。この光吸収型反射防止フィルムは、最小反射率が0.5%以下、波長550nmにおける透過率が70%以上、波長400nmにおける反射率が2%以下である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明基材フィルム上に、ハードコート層、透明導電層、光吸収層及び低屈折率層をこの順で積層してなる反射防止フィルムにおいて、 該低屈折率層が、 中空のシリカ微粒子(以下「ポーラスシリカ」と称す。)と、 多官能(メタ)アクリル系化合物と、 光重合開始剤と を含む塗膜に、酸素濃度が0〜10000ppmの雰囲気下で紫外線を照射することにより硬化させてなり、 最小反射率が0.5%以下、波長550nmにおける透過率が70%以上、波長400nmにおける反射率が2%以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
IPC (5件)：
G02B1/11 ,  B32B27/16 ,  B32B27/20 ,  B32B27/30 ,  G09F9/00
FI (5件)：
G02B1/10 A ,  B32B27/16 ,  B32B27/20 Z ,  B32B27/30 A ,  G09F9/00 313
Fターム (72件)：
2K009AA04 ,  2K009AA15 ,  2K009BB24 ,  2K009CC01 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009EE01 ,  2K009EE03 ,  4F100AA12B ,  4F100AA17C ,  4F100AA20A ,  4F100AA25C ,  4F100AA28C ,  4F100AA29C ,  4F100AA33C ,  4F100AA37B ,  4F100AA37C ,  4F100AH05A ,  4F100AH06A ,  4F100AK17A ,  4F100AK25A ,  4F100AK42E ,  4F100AR00B ,  4F100AR00E ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10E ,  4F100CA30A ,  4F100DC25A ,  4F100EH46D ,  4F100EJ54A ,  4F100EJ67A ,  4F100GB48 ,  4F100JG01C ,  4F100JK12D ,  4F100JL11E ,  4F100JN01C ,  4F100JN01E ,  4F100JN02B ,  4F100JN02C ,  4F100JN06 ,  4F100JN18A ,  4F100JN18B ,  4F100JN18E ,  4F100YY00 ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4F100YY00E ,  5G435AA02 ,  5G435AA04 ,  5G435AA08 ,  5G435AA14 ,  5G435AA17 ,  5G435BB02 ,  5G435BB05 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435CC12 ,  5G435GG11 ,  5G435GG43 ,  5G435HH03 ,  5G435HH12 ,  5G435HH18 ,  5G435HH20 ,  5G435KK07
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (9件)
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