特許

J-GLOBAL ID：200903077983865516

熱処理装置

発明者： 柴田 利光 ,  宮壽 俊明 ,  金田 直也
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-167473
公開番号（公開出願番号）：特開平7-006956
出願日： 1993年06月14日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：

【要約】【目的】 断熱性保温筒に処理ガスの導入機能を持たせることにより、被処理体収容ボートを回転させることなく膜厚の面内均一性を高く維持することができる熱処理装置を提供する。【構成】 被処理体収容ボート16に収容した被処理体Wに処理ガスを供給して熱処理を施す処理容器8と、処理ガスを導入する処理ガス導入ノズル50と、処理容器の開口部を開閉可能に密閉するキャップ部20と、上記ボートを載置する断熱性保温筒54を有し、この保温筒にガス導入口62とガス導通路66と、ガス放出口64を形成する。そして、ノズルより導入した処理ガスをガス導入口より保温筒に取り込んで、その上部のガス放出口より放射状に放出する。これにより、ボートを回転させることなく成膜の面内均一性を確保する。

請求項（抜粋）：

被処理体収容ボートに収容された被処理体に処理ガスを供給しつつ熱処理を施すために下方が開口された処理容器と、前記処理ガスを導入するために前記処理容器内側へ貫通させて設けた処理ガス導入ノズルと、前記処理容器の開口部を開閉可能に密閉すると共に昇降可能になされたキャップ部と、前記キャップ部に連結されると共にその上部に前記被処理体収容ボートを載置する断熱性保温筒とを備え、前記保温筒は、その内部にガス導通路が形成されると共にガス導入口が前記ガス導入ノズルの先端に接近させて形成され、上部にガス放出口が形成されていることを特徴とする熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/22

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 縦型減圧CVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-137062   出願人：日本電気株式会社