特許

J-GLOBAL ID：200903077993597501

逆浸透膜によるシアン含有排水の浄化方法

発明者： 大迫 友弘 ,  中村 文英
出願人/特許権者： 日本パーカライジング株式会社
代理人 (1件)： 村井 卓雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-097058
公開番号（公開出願番号）：特開2008-253897
出願日： 2007年04月03日
公開日（公表日）： 2008年10月23日
要約：

【課題】 シアン含有排水を逆浸透膜で処理する際に遊離シアンの阻止率を高める。また、スラッジの発生が少なく、排水の大量処理を実現する。【解決手段】 全シアン濃度0.5〜1000ppmの範囲にある被処理水に対し、遊離シアンとの安定度定数が対数で15以上の金属を遊離シアンに対して金属/遊離シアンのモル比で0.1〜2の範囲で添加する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

逆浸透膜によるシアン含有排水の浄化方法において、遊離シアンを含有し、全シアン濃度0.5〜1000ppmの範囲にある被処理水に対し、遊離シアンとの安定度定数が対数で15以上の金属を前記遊離シアンに対して金属/遊離シアンのモル比で0.1〜2の範囲で添加し、添加後の被処理水を逆浸透膜に通すことを特徴とするシアン含有排水の浄化方法。

IPC (5件)：

C02F 1/44 ,  C02F 1/72 ,  B01D 61/02 ,  C02F 1/02 ,  C02F 1/58

FI (5件)：

C02F1/44 E ,  C02F1/72 A ,  B01D61/02 500 ,  C02F1/02 D ,  C02F1/58 N

Fターム (39件)：

4D006GA03 ,  4D006HA41 ,  4D006KA03 ,  4D006KA71 ,  4D006KB30 ,  4D006KD01 ,  4D006KD11 ,  4D006KD12 ,  4D006KD17 ,  4D006KD24 ,  4D006KD30 ,  4D006KE11R ,  4D006KE15R ,  4D006KE30R ,  4D006MA03 ,  4D006MC18 ,  4D006MC33 ,  4D006MC54 ,  4D006MC62 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PB70 ,  4D034AA13 ,  4D034AA19 ,  4D034CA04 ,  4D038AA08 ,  4D038AB32 ,  4D038AB33 ,  4D038BB01 ,  4D038BB09 ,  4D038BB13 ,  4D038BB16 ,  4D038BB20 ,  4D050AA13 ,  4D050AB39 ,  4D050BB06 ,  4D050CA09 ,  4D050CA13 ,  4D050CA20

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 水処理方法および水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-331395   出願人：株式会社東芝
• めっき装置及びめっき方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-051849   出願人：株式会社荏原製作所