特許
J-GLOBAL ID:200903078026118870
成形金型とその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石井 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-216091
公開番号(公開出願番号):特開平10-044160
出願日: 1996年07月29日
公開日(公表日): 1998年02月17日
要約:
【要約】【課題】 超硬合金、ステンレス鋼、鉄材等に対する密着力が強く、耐久性に優れた成形金型とその製造方法を提供し、この金型を各種光記録ディスク、光磁気ディスク、各種再生専用光ディスク等の成形に使用した場合にスタンパーの長寿命化を図ることも可能とする。【解決手段】 少なくともキャビティ内部の表面に保護膜を有し、この保護膜が 式I SiCX HY NZ OW(上記式IにおいてX,Y,ZおよびWは原子比を表し、X=0.05〜4、Y=0.05〜8、Z=0〜4、W=0〜4である)で表される組成を有し、前記表面は超硬合金、ステンレス系材料、鋼系材料、アルミニウムあるいはその合金等から構成され、ディスク基板製造用とした場合には、少なくともディスク成形用のスタンパーを載置する面に前記保護膜を設けることとした。また、この保護膜はプラズマCVD法、イオン化蒸着法、スパッタ法のいずれかにより製造される。
請求項(抜粋):
少なくともキャビティ内部の表面に保護膜を有し、この保護膜が式I SiCX HY NZ OW(上記式IにおいてX,Y,ZおよびWは原子比を表し、X=0.5〜25Y=0.5〜20Z=0〜6W=0〜6である)で表される組成を有する成形金型。
IPC (4件):
B29C 33/38
, C23C 14/08
, C23C 16/50
, B29L 17:00
FI (3件):
B29C 33/38
, C23C 14/08 Z
, C23C 16/50
引用特許:
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