特許
J-GLOBAL ID：200903078032264764
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小谷 悦司
, 伊藤 孝夫
, 樋口 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-294555
公開番号（公開出願番号）：特開2006-103917
出願日： 2004年10月07日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】基板を傾斜させる機構を備えつつ、このために基板処理装置の設置面積が大きくなることのない基板処理装置を提供すること。【解決手段】基板Wを搬送しつつ基板Wに処理を施す処理部13,15が多段に配置された基板処理装置1のエレベータユニット14に、基板Wの少なくとも一部を支持する降下基板支持台142と、降下基板支持台142を昇降させる昇降機構部144とを備え、エレベータユニット14から基板Wを搬出する搬出コンベア機構151は、降下基板支持台142が支持する基板Wの傾斜姿勢とは異なる傾斜姿勢で基板Wを支持し、エレベータユニット14の降下基板支持台142との間で基板Wを乗り移させる搬出基板支持台143を備え、降下基板支持台142と搬出基板支持台143とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより降下基板支持台142と搬出基板支持台143との間で基板Wを乗り移させる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板を搬送しつつ基板に処理を施す処理部が多段に配置された基板処理装置において、
前記多段に配置された処理部間で基板を上又は下に搬送するエレベータ部は、
基板を支持する基板支持手段と、
前記基板支持手段を昇降させる昇降手段とを備え、
前記エレベータ部との間で基板を搬送する搬送コンベア部は、
前記基板支持手段が支持する基板の姿勢とは異なる傾斜姿勢で基板を支持し、前記エレベータ部の基板支持手段との間で基板を乗り移させる搬送基板支持手段を備え、
前記基板支持手段と前記搬送基板支持手段とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより前記基板支持手段と前記搬送基板支持手段との間で基板を乗り移させる基板処理装置。
IPC (5件)：
B65G 49/06
, G02F 1/13
, G02F 1/133
, H01L 21/304
, H01L 21/677
B65G49/06 Z
, G02F1/13 101
, G02F1/1333 500
, H01L21/304 648A
, H01L21/68 A
2H088FA17
, 2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H088HA01
, 2H088MA20
, 2H090JB02
, 2H090JC19
, 5F031CA05
, 5F031FA02
, 5F031FA07
, 5F031FA12
, 5F031FA14
, 5F031FA18
, 5F031GA53
, 5F031LA15
, 5F031MA23
, 5F031PA02
, 5F031PA30
