反射防止膜及び反射防止膜の形成方法並びに反射防止ガラス

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-369438
公開番号（公開出願番号）：特開2001-235604
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】【課題】水接触角が小さく、反射防止性能に優れた反射防止膜を低コストで、大量かつ大面積に処理可能な方法で提供すること。【解決手段】 Si(OR)4 で示される珪素化合物(A)と、R1 Si(OR2 )3 で示される珪素化合物(B)と、R3 CH2 OHで示されるアルコール(C)と、蓚酸(D)とを特定比率に含有する反応混合物を水の不存在下に50〜180°Cで加熱することによりポリシロキサンの溶液を生成させ、当該溶液を含有する塗布液をガラス表面に塗布し、この塗布により得られた塗膜を480〜520°Cで熱硬化させることを特徴とする反射防止膜の形成方法、該形成方法にて得られる1.33〜1.38の屈折率及び40°以下の水接触角を示す反射防止膜、及び該反射防止膜を有する反射防止ガラス。

請求項（抜粋）：

ガラス表面に密着して形成される反射防止膜の形成方法において、下記一般式(1)【化1】(式中、Rは1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表す。)で示される珪素化合物(A)と、下記一般式(2)【化2】(式中、R1 は炭素数1〜18の有機基を表し、R2 は1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表す。)で示される珪素化合物(B)と、下記一般式(3)【化3】(式中、R3 は、水素原子または1〜12個の炭素原子を有する非置換のもしくは置換基を有するアルキル基を表す。)で示されるアルコール(C)と、蓚酸(D)とを、珪素化合物(A)1モルに対して珪素化合物(B)0.05〜4.5モルの比率に、珪素化合物(A)と珪素化合物(B)に含まれる全アルコキシ基1モルに対してアルコール(C)0.5〜100モルの比率に、そして珪素化合物(A)と珪素化合物(B)に含まれる全アルコキシ基1モルに対して蓚酸(D)0.2〜2モルの比率に含有する反応混合物を形成させ、そしてこの反応混合物を、その中の珪素原子から換算された0.5〜10重量%のSiO2 濃度に維持すると共に水の不存在を維持しながら、当該反応混合物中の珪素化合物(A)及び珪素化合物(B)の全残存量が5モル%以下となるまで、50〜180°Cで加熱して得られたポリシロキサン溶液をガラス表面に塗布し、この塗布により得られた塗膜を480〜520°Cで熱硬化させることを特徴とする反射防止膜の形成方法。

IPC (4件)：

G02B 1/11 , C09D 5/00 , C09D183/02 , C09D183/04

FI (4件)：

C09D 5/00 Z , C09D183/02 , C09D183/04 , G02B 1/10 A

引用特許：

審査官引用 (7件)

低屈折率及び撥水性を有する被膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-309020 出願人：日産化学工業株式会社
親水性膜およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-096362 出願人：セントラル硝子株式会社
低屈折率反射防止膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-255007 出願人：日産化学工業株式会社

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