特許
J-GLOBAL ID：200903078045036221
写真フィルム用ベースフィルム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-098455
公開番号（公開出願番号）：特開平9-288329
出願日： 1996年04月19日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】ポリエチレン-2,6-ナフタレンジカルボキシレートを主たる成分としてなる透明性および寸法安定性に優れかつ、良好な平面性を備えた写真フイルム用ベースフイルムを提供する。【解決手段】 フィルムを110°Cにおいて24時間保持したときのフィルム長手方向の熱収縮率が0.25%以下であり、かつこの熱収縮率のフィルム幅方向における最大値と最小値の差が0.10%以下であり、かつフィルムのリン含有量がリン原子として15ppm以上200ppm以下であり、かつフィルム両側端部とこの中間部の一カ所以上にエンボス加工を施し、エンボスの高さが5〜40μmであり、かつフィルムの長手方向に対して直角に交わる直線上に存在する2つ以上のエンボスの高さの差が10μm以下であり、かつエンボス加工を施していない部分のフィルム間のハリツキ度が3級以下である。
請求項（抜粋）：
ポリエチレン-2,6-ナフタレンジカルボキシレートを主たる成分としてなる二軸延伸フィルムであって、フィルムを110°Cにおいて24時間保持したときのフィルム長手方向(MD)の熱収縮率が0.25%以下であり、このMDの熱収縮率のフィルム幅方向(TD)における最大値と最小値の差(MDの最大熱収縮率-MDの最小熱収縮率)が0.10%以下であり、フィルムのリン含有量がリン原子として15ppm以上200ppm以下であり、フィルムの光学濃度Yが0.040〜0.075であり、フィルムの少なくとも両側端部にエンボス加工により施されたエンボスを有し、エンボスの高さが5〜40μmであり、フィルムの長手方向(MD)に対して直角に交わる直線上に存在する2つ以上のエンボスの高さの差が10μm以下であり、かつエンボス加工を施していない部分のフィルム間のハリツキ度が3級以下であることを特徴とする写真フィルム用ベースフィルム。
IPC (7件)：
G03C 1/795
, B29C 55/14
, C08G 63/189 NMZ
, C08J 5/18 CFD
, G03C 1/765
, B29K 67:00
, B29L 7:00
G03C 1/795
, B29C 55/14
, C08G 63/189 NMZ
, C08J 5/18 CFD
, G03C 1/765
