特許
J-GLOBAL ID：200903078048267070
エキシマレーザー用合成石英ガラス部材の製造方法およびその方法で製造されたエキシマレーザー光学用合成石英ガラス部材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武田 正彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-037884
公開番号（公開出願番号）：特開2002-316825
出願日： 2002年02月15日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：
【要約】【課題】 従来技術の欠点に鑑み、レーザー耐性を低下させる還元性欠陥の生成を抑えつつ高いレーザー耐性を得るに十分な水素分子を石英ガラス中に導入し、かつ、水素分子の濃度分布に起因する屈折率分布が平坦になるように水素分子を均一に導入するエキシマレーザー用合成石英ガラス部材の製造方法およびその製造法で得られた高いレーザー耐性と均質性をともに備えるエキシマレーザー用合成石英ガラス部材を提供する。【解決手段】 本発明のエキシマレーザー用合成石英ガラス部材の製造方法合成は、石英ガラス体を1気圧以上150気圧未満の圧力の水素含有雰囲気中で、処理温度600°C以下で熱処理して、該石英ガラス体に水素分子を含有させる工程を含むエキシマレーザー光学用合成石英ガラス部材の製造方法であって、前記熱処理中の少なくとも一部において、前記水素含有ガスの圧力を連続的もしくは段階的に変化させることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
合成石英ガラス体を1気圧以上150気圧未満の圧力の水素含有雰囲気中で、処理温度600°C以下で熱処理して、該石英ガラス体に水素分子を含有させる工程を含むエキシマレーザー光学用合成石英ガラス部材の製造方法であって、前記熱処理中の少なくとも一部において、前記水素含有ガスの圧力を連続的もしくは段階的に変化させることを特徴とするエキシマレーザー用合成石英ガラス部材の製造方法。
IPC (3件)：
C03B 8/04
, C03B 20/00
, H01S 3/034
C03B 8/04 P
, C03B 8/04 R
, C03B 20/00 E
, C03B 20/00 F
, H01S 3/03 G
4G014AH15
, 4G014AH21
, 5F071AA06
, 5F071FF07
, 5F071FF09
, 5F071JJ03
