特許
J-GLOBAL ID:200903078120572770
重合分子鎖の作成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
滝田 清暉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-224970
公開番号(公開出願番号):特開2002-069111
出願日: 2000年07月26日
公開日(公表日): 2002年03月08日
要約:
【要約】【課題】 この発明は、多重結合を有するモノマーから成る薄膜に所望の位置で所望の長さの重合分子鎖を作成する方法に関する。【解決手段】 本発明は、本発明は、不飽和結合が隣接するように配列させた多重結合を有するモノマーから成る薄膜にパルス電圧をかけることにより該モノマーを重合させて重合分子鎖を作成する方法である。前記重合分子鎖を所望の位置で所望の長さに重合させてもよい。また前記パルス電圧を走査トンネル顕微鏡のプローブを用いてかけてもよい。更に、前記薄膜上に形成した欠陥を前記重合分子鎖の終点として前記モノマーの長さを制御してもよい。
請求項(抜粋):
不飽和結合が隣接するように配列させた多重結合を有するモノマーから成る薄膜にパルス電圧をかけることにより該モノマーを重合させて重合分子鎖を作成する方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (3件):
4J011BB01
, 4J011BB10
, 4J011XA03
引用特許:
審査官引用 (1件)
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微細パターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-279982
出願人:株式会社日立製作所
引用文献:
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