特許
J-GLOBAL ID：200903078123770883
伝搬特性測定プロセス及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-094060
公開番号（公開出願番号）：特開平6-300683
出願日： 1994年03月28日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：
【要約】【目的】 センサ表面上の光表面波の伝搬特性の測定に基づく光学的物質分析プロセス及びこのプロセスを実行する装置を提供する。【構成】 サンプルと接触するように配置された導波層構造において、複数の誘導光波、即ち測定対象波と基準波とが格子結合器によって放出される。前記導波層構造の面が目的面を形成し、検出面が光学的撮像の撮像面内に位置するようにして、前記格子結合器の放出波領域を、位置分解検出器上で撮像し、空間周期的干渉パターンを検出面に得る。この干渉パターンの空間周期性を評価することによって、測定対象波と基準波との相対的位相を非常に正確に測定することができる。撮像によって得られた放出波領域の光分布を用いて、測定すべき分析量を判定する。このプロセスを実行する装置は、格子結合器(3)を有する適切な導波センサ(1、2)、撮像用レンズ系(9)、及び光検出器(10)から成る。
請求項（抜粋）：
導波層構造内を誘導される複数の光波が格子結合器によって放出されるようにして、センサ表面上で物質の分析を行なう光学的プロセスにおいて、前記導波層構造の面が目的面となり、検出面が光学的撮像の撮像面内に位置するようにして、前記格子結合器の放出領域を、位置分解検出器上で撮像し、前記撮像の結果得られた放出波領域の光分布が、前記検出器によって測定されると共に、測定されるべき分析量を判定するために用いられることを特徴とする光学的プロセス。
IPC (2件)：
引用特許：
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